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您的位置：首页 - 产品中心 - ORC/日本 - 紫外线照射设备 - HMW-615N-4京都玉崎核心渠道 ORC/日本紫外线照射设备

京都玉崎核心渠道 ORC/日本紫外线照射设备

京都玉崎核心渠道 ORC/日本紫外线照射设备
这是一种通过用紫外线照射基板表面残留有机物，去除有机物污染的装置，用于形成细微图案的工艺，如半导体制造工艺和液晶板制造工艺。表面可以清洁和改造而不会损坏基底。

产品型号：HMW-615N-4
厂商性质：代理商
更新时间：2026-04-14
访问量：16

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京都玉崎核心渠道 ORC/日本紫外线照射设备

装置搭载独特的低压紫外线灯，选用VUV-100/A-5.3U·7型号灯具，兼具极低的基材损伤性和高效的有机物分解能力，既能分解基板表面的残留有机物，又能保护基板本身，避免因清洁过程造成的基材损耗，适配半导体、液晶板等精密基材的清洁需求。

为确保清洁均匀性，装置采用基板振动模式设计，通过振动带动基板平稳运动，使紫外线能够均匀照射到基板的每一个区域，有效避免局部清洁不彻d底、照射不均等问题，保障基板表面清洁度的一致性，为后续细微图案形成工艺奠定良好基础。同时，装置在运行过程中对基材的加热幅度极小，可有效防止基材因高温发生变形、性能改变等情况，进一步保护基材完整性，适配各类热敏性精密基板。

在辐照方式上，装置配备两种放射性照射方法，可灵活实现臭氧切断与氮气去除，既能满足不同清洁场景的需求，又能有效控制清洁过程中产生的臭氧等有害气体，保障作业环境的安全性与环保性。此外，装置配备臭氧分解过滤器，可对清洁过程中产生的废气进行有效处理，去除臭氧，避免废气排放对环境和操作人员造成影响，符合制造领域的环保与安全标准。

整体来看，该装置凭借精准的清洁能力、温和的处理方式、灵活的操作模式，成为半导体、液晶板制造等精密工艺中不能缺少的表面清洁设备，能够有效提升基板清洁效率与质量，保障后续生产工艺的稳定性与可靠性。

参数项	详细规格
模型	HMW-615N-4
使用的灯具	低压紫外线灯（VUV-100/A-5.3U·7 灯）
照射距离	25毫米
辐射面积	400W × 400D（单位：毫米）
照射时间	任意调节，最长可达99分59秒
废气臭氧去除	配备臭氧分解过滤器，有效去除废气中的臭氧
设备尺寸（W×D×H）	700毫米 × 800毫米 × 1447毫米（W=西，D=深度，H=高度）
核心优势	基材损伤极小、有机物分解能力强；基板振动照射，紫外线均匀；基材加热幅度小；两种辐照方式，可切断臭氧、去除氮气
适用场景	半导体制造工艺、液晶板制造工艺等需要形成细微图案的精密场景，用于基板表面有机物污染去除及表面清洁、改性

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这是一种通过用紫外线照射基板表面残留有机物，去除有机物污染的装置，用于形成细微图案的工艺，如半导体制造工艺和液晶板制造工艺。表面可以清洁和改造而不会损坏基底。

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